Perpustakaan Digital ITB

Metoda pelapisan logam sudah mulai digunakan pada bahan dasar non-logam, seperti grafit. Grafit memiliki konduktivitas dan ketahanan terhadap korosi yang baik, namun grafit juga bersifat rapuh sehingga perlu dilakukan pelapisan terhadap grafit. Pada proses pelapisan logam, perlu dilakukan optimasi terhadap beberapa parameter yang akan mempengaruhi hasil pelapisan. Penelitian ini bertujuan untuk mencari kondisi optimum dalam proses pelapisan grafit. Logam yang dijadikan pelapis adalah tembaga dan nikel. Logam tembaga memiliki ketahanan terhadap korosi dan konduktivitas yang baik, sedangkan logam nikel mampu mempertahankan sifat aslinya pada kondisi ekstrim. Proses pelapisan menggunakan metoda elektrodeposisi dengan sumber arus DC, yaitu GWINSTEK gps-30300. Pada elektrodeposisi tembaga, didapat kondisi optimum pada rapat arus sebesar 1,5 A/dm2 dan konsentrasi larutan elektrolit CuSO4 sebesar 0,1 M, sedangkan pada elektrodeposisi nikel, didapat kondisi optimum pada rapat arus sebesar 1,25 A/dm2 dan waktu elektrolisis selama 20 menit. Pada penentuan pengaruh jarak elektrolisis menggunakan sel Hull, menghasilkan data bahwa transport ion logam menuju katode mengikuti persamaan ekponensial.