Perpustakaan Digital ITB

Studi karakterisasi terhadap sifat struktur dan sifat optik material DyScO3 telah dilakukan menggunakan alat karakterisasi XRD, FTIR, AFM, dan SE (Spektroskopi Ellipsometri). Material DyScO3 yang ditumbuhkan menggunakan metode Czochralski ini berpotensi sebagai substrat maupun material film tipis. Konstanta dielektrik yang tinggi, bandgap yang lebar, dan konstanta ekspansi termal yang tinggi merupakan beberapa keunggulan yang telah dilaporkan dari material DyScO3. Adapun Hydrogen plasma treatment sebagai salah satu parameter pada studi ini memberikan beberapa perubahan pada sifat stuktur dan sifat optik yang terlihat dari hasil karakterisasi. Plasma hidrogen (H+) yang bermuatan positif berinteraksi dengan permukaan substrat yang mengandung ion O- dari material DyScO3. XRD sebagai alat karakterisasi struktur kristal memperlihatkan bahwa material DyScO3 memiliki krsitalinitas yang tinggi. Adapun hasil karakterisasi lainnya menggunakan FTIR menunjukkan adanya perubahan signifikan yang terlihat dari grafik absorbansi. Sedangkan hasil karakterisasi AFM menunjukkan permukaan substrat yang lebih rata setelah diberikannya Hydrogen Plasma Treatment dan hasil SE menunjukkan peningkatan konduktivitas optik yang diikuti oleh penurunan bandgap optik. Jadi pemberian HPT membuat permukaan substrat semakin rata (smoothing process) dan juga meningkatkan konduktivitas (annealing process) dengan mekanisme sputter-off, evaporative dan lit-off.