2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-COVER.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-BAB_I.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-BAB_II.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-BAB_III.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-BAB_IV.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-BAB_V.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
2018_TA_PP_AKHMAD_ZEIN_EKO_MUSTOFA_1-PUSTAKA.pdf
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Terbatas  Wulan Nurhasanah
» Gedung UPT Perpustakaan
Hard Chromium Plating adalah salah satu teknik pelapisan yang banyak diaplikasikan pada komponen engineering. Sifat lapisan kromium hasil pelapisan ini memiliki kekerasan, ketahanan korosi dan aus yang tinggi. Karena keunggulan tersebut maka teknik pelapisan ini kemudian banyak diaplikasikan pada berbagai jenis material untuk memperbaiki sifat permukaan, salah satunya yaitu pada baja karbon rendah. Untuk mendapatkan kualitas lapisan hard chromium yang optimum maka perlu dilakukan penelitian terhadap berbagai parameter yang berpengaruh pada proses pelapisan. Parameter-parameter yang mempengaruhi kualitas lapisan hard chromium antara lain temperatur, rapat arus, komposisi dan konsentrasi larutan,dan jarak anoda-katoda.
Pada penelitian ini dilakukan variasi temperatur dan rapat arus untuk mempelajari efek variasi parameter pelapisan terhadap kualitas lapisan hard chromium.Proses pelapisan dilakukan selama 60 menit pada temperatur 50,55, dan 60 °C dengan variasi rapat arus 70, 80, dan 90 A/dm2. Selanjutnya dilakukan metalografi permukaan dan penampang melintang, penentuan efisiensi arus katodik, pengujian kekerasan, dan karakterisasai X-Ray Diffraction (XRD).
Hasil penelitian menunjukkan bahwa kekerasan maksimum lapisan hard chromium didapatkan pada temperatur pelapisan 55°C dengan rapat arus 80 A/dm2 yaitu sebesar 1128 VHN. Ketebalan maksimum lapisan yaitu 117,15 µm didapatkan pada temperatur 50 °C dengan rapat arus 80 A/dm2 dan lapisan hard chromium yang terbentuk tidak homogen. Kemudian dari analisa hasil XRD dapat dilihat adanya perubahan parameter kisi pada semua spesimen yang mengakibatkan distorsi kisi kristal yang berakibat pada peningkatan kekerasan
lapisan hard chromium.