digilib@itb.ac.id +62 812 2508 8800


2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-COVER.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-BAB1.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-BAB2.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-BAB3.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-BAB4.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-BAB5.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

2015_TA_PP_AHLUL_HAFIZAN_RESHA_1-PUSTAKA.pdf
Terbatas  Latifa Noor
» Gedung UPT Perpustakaan

Nanokristal zirkonia berukuran 9-26 nm telah berhasil disintesis dengan prekursor ZrCl4 melalui metode sol-gel. Pengaruh suhu prekursor, komposisi pelarut, pH hidrolisis, dan suhu kalsinasi terhadap fasa nano-zirkonia juga diamati. Kondisi optimum sintesis telah diperoleh dari hasil pengukuran TGA dan XRD bahwa pembentukan fasa tetragonal terbentuk dari prekursor yang tidak mengalami pendinginan, perbandingan volume etanol:air = 5:1, pH hidrolisis adalah 9, serta suhu kalsinasi pada 400 °C. Fabrikasi film tipis zirkonia dilakukan melalui teknik deposisi spin coating dengan melakukan variasi konsentrasi sol, kecepatan pemutaran, dan durasi pemutaran. Film zirkonia yang solid didapatkan dari sol dengan konsentrasi 0,2 M yang diputar dengan kecepatan 1200 rpm selama 30 detik. Nano-zirkonia mempunyai lebar celah pita 5,10-5,17 eV dengan sifat fotoluminesen teramati pada ?emisi 362 nm dan 420 nm dengan ?eksitasi 265-325 nm serta teramati juga ?emisi 440 nm dengan puncak yang lebar dan intensitas tinggi dengan ?eksitasi 354 nm. Film tipis zirkonia mempunyai lebar celah pita pada 3,4 eV dan 4,6 eV dengan sifat fotoluminesen yang teramati pada ?emisi 362 nm dengan ?eksitasi 265-340 nm yang diukur melalui UV-Vis (DRS) dan spektrofotometri fotoluminesen. Oleh karena itu, nanokristal dan film tipis zirkonia berpotensi sebagai material optoelektronik.