digilib@itb.ac.id +62 812 2508 8800

Telah difabrikasi film tipis superkonduktor HgBa2Ca2Cu3O8+8MgO(100) dengan metode unbalanced dc magnetron sputtering. Metode ini dapat menghindari efek resputtering pada film tipis. Film yang terdeposisi dianalisis dengan menggunakan karakterisasi XRD dan SEM. Hasil SEM menunjukkan bahwa butiran-butiran menyebar secara merata di seluruh permukaan film tipis dan nampak jelas pada perbesaran 2000 kali. Selanjutnya analisa struktur bahan dengan XRD menunjukkan bahwa telah terbentuk fase Hg-1201, Hg-1212 dan Hg-1223 dengan fraksi volume yang berbeda. Untuk meningkatkan temperatur kritis maka telah dilakukan fabrikasi dengan kondisi deposisi yang berbeda-beda. Hasil pengukuran temperatur kritis (Tc) menunjukkan bahwa Tc meningkat menjadi 107,6K dengan kondisi deposisi : Teirperatur substrat (Ts) = 700 derajat C, temperatur annealing (Ta) = 600 derajat C dan perbandingan laju aliran gas Ar : 02 = 6 : 1.