Perpustakaan Digital ITB

Manusia dalam aktivitasnya pasti mengadakan kontak langsung dengan permukaan suatu benda. Tugas akhir ini membahas secara detail proses pertumbuhan permukaan. Berbicara tentang permukaan, permukaan yang ada di bumi ini hampir semuanya kasar dan biasanya terbentuk dari proses deposisi. Proses terbentuknya permukaan yang kasar tersebut dapat dijelaskan dalam tiga model yang sederhana yaitu Random Deposition (RD), Ballistic Deposition (BD), Random Deposition with Surface Relaxation (RDSR), dengan masing-masing model memenuhi suatu aturan yang sama, universality class. Setiap model memenuhi scaling relation (exponents) yang dapat dijelaskan dengan eksperimen, model diskrit, dan persamaan continuum. Ketiga model ini dapat dijelaskan dengan menggunakan persamaan-persamaan yaitu Edwards-Wilkinson (EW), dan Kardar-Parisi-Zhang (KPZ). RDSR dapat dijelaskan dengan persamaan EW dan BD dapat dijelaskan dengan persamaan KPZ. Dari model yang dibuat didapatkan scaling exponents. Untuk model RD β=0.5005; untuk model BD β=0.2873, α=0.4651, z=1.5132; dan untuk model RDSR α=0.46; β=0.2547; z=1.806. Ketiga model tersebut juga dapat digunakan dalam kasus yang lebih nyata dan cukup berkembang akhir-akhir ini yaitu bagaimana membuat lapisan tipis (bahan semikonduktor). Jika ditambahkan beberapa parameter fisis pada ketiga model tersebut, maka dapat dipakai untuk menjelaskan tentang Molecular Beam Epitaxy. Pada Molecular Beam Epitaxy (MBE), semakin tinggi temperatur akan menghasilkan permukaan interface yang semakin halus dan sebaliknya semakin rendah temperatur akan menghasilkan permukaan interface yang kasar. β yang didapatkan semakin kecil seiring dengan kenaikan temperatur untuk setiap panjang sistem yang berbeda. Untuk MBE βefektif≈0,375.