Path: Top > S1-Final Project > Material Engineering-FTMD > 2011

SINTESIS DAN KARAKTERISASI LAPISAN TIPIS ZnO DENGAN METODA CHEMICAL BATH DEPOSITION

Undergraduate Theses from JBPTITBPP / 2017-10-09 10:32:50
Oleh : RIFQI JATNIKA (NIM : 13707015); Dosen Pembimbing : Ir. Ahmad Nuruddin, PhD, S1 - Material Engineering Study Programme
Dibuat : 2011, dengan 7 file

Keyword : Zinc Oxide, chemical bath deposition, medan listrik eksternal.

ZnO merupakan material semikonduktor dengan energi band gap yang lebar pada temperatur ruangan. dan energi ikat eksiton yang besar (~ 60 eV), memiliki transparansi optis dan konduktivitas listrik yang baik. Dengan melihat sifat-sifat tersebut, lapisan tipis ZnO merupakan kandidat yang menjanjikan untuk berbagai aplikasi seperti transparent conductive oxide (TCO), sel surya, liquid crystal display (LCD),photocatalytic, , sensor gas, dan lain sebagainya.




Pada penelitian ini dilakukan sintesis lapisan tipis ZnO dengan menggunakan metoda chemical bath deposition menggunakan Zinc Acetate Dihydrate (Zn(CH3COOH)2.2H2O) sebagai prekursor dengan larutan ammonia dan kaca preparat sebagai substrat. Pada penelitian ini dilakukan pengaturan besar medan listrik eksternal pada saat proses deposisi. Temperatur kalsinasi yang digunakan adalah 550oC.




Deposisi lapisan tipis ZnO pada substrat kaca preparat dengan metoda deposisi chemical bath telah berhasil dilakukan. X-ray Diffraction (XRD) sampel menunjukkan ZnO tanpa pengotor. Pemberian medan listrik eksternal selama proses pertumbuhan lapisan tipis ZnO meningkatkan keseragaman ukuran butir, kristalinitas lapisan tipis ZnO, dan ketebalan lapisan secara linier dengan laju 15.6 nm/kVcm-1. Nilai transmitansi optik lapisan tipis ZnO tanpa medan listrik adalah 52%-63% pada rentang gelombang sinar tampak, dengan band gap sebesar 3,92 eV.

Deskripsi Alternatif :

ZnO is a semiconductor materials with wide band gap and high exciton energy (~60 eV) in room temperature, ZnO also has good optical transparency and good electrical conductivity. With that properties, ZnO thin film is a promised candidate for various application transparent conductive oxide (TCO), solar cell, liquid crystal display (LCD), photocatalytic, gas sencor, etc.




In this research ZnO thin film is sintesized with chemical bath deposition using Zinc Acetate Dyhidrat (Zn(CH3COOH)2.2H2O) with ammonia solution as precursor solution, and glass as the substrate. In this research the effect of external electric field with maximum 9 kV/cm that applied during deposition process is studied due to growth and structure of ZnO thin. The calcination temperature that used is 550oC.




ZnO thin film has been successfully deposited on glass substrate by chemical bath deposition method. X-Ray Diffraction (XRD) of sample indicates that the compound is ZnO without impurity. External electric field that applied during deposotion process increases the uniformity of the ZnO thin film grain size, layer thickness linearly at a rate of 15.6 nm/kVcm-1. Optical transmittance in the visible wavelength of the ZnO thin film without external electric field is 52-63%, with band gap 3.92 eV.

Beri Komentar ?#(0) | Bookmark

PropertiNilai Properti
ID PublisherJBPTITBPP
OrganisasiS
Nama KontakUPT Perpustakaan ITB
AlamatJl. Ganesha 10
KotaBandung
DaerahJawa Barat
NegaraIndonesia
Telepon62-22-2509118, 2500089
Fax62-22-2500089
E-mail Administratordigilib@lib.itb.ac.id
E-mail CKOinfo@lib.itb.ac.id

Print ...

Kontributor...

  • Pembimbing : Ir. Ahmad Nuruddin, PhD, Editor: PKL-SMK

File PDF...